O edifício do Parque Lage. Foto: Ana Lauriano/Flickr

Como parte do projeto de internacionalização da Escola de Artes Visuais do Parque Lage (Rio de Janeiro), o diretor da instituição, Fabio Szwarcwald, anuncia na próxima quarta-feira, dia 13 de fevereiro, a primeira edição do Prêmio Parque Lage, realizado em parceria com a organização nova-iorquina AnnexB.

Alunos e ex-alunos formados no último biênio da EAV Parque Lage podem se inscrever para concorrer ao prêmio, que terá júri formado por representantes das duas instituições. O contemplado terá direito à residência artística de dois meses, com todas as despesas pagas, em Nova York.

Sediada no Parque Lage, em edifício tombado pelo IPHAN, a EAV é uma das mais importantes instituições educacionais de arte do país. Voltada prioritariamente para o campo das artes visuais contemporâneas, abrange também outros campos de expressão como música, dança, cinema, teatro e literatura. As atividades da EAV contemplam tanto as práticas artísticas como seus fundamentos conceituais, com foco também na formação de público através da realização de exposições, eventos, de uma biblioteca e de seu arquivo documental.

A AnnexB é uma organização sem fins lucrativos fundada em 2016 e dedicada a divulgar e promover a arte brasileira em Nova York. Através de residências artísticas, exposições e programas públicos, a AnnexB trabalha especialmente com artistas contemporâneos em início ou meio de carreira. Já estiveram em residência na instituição mais de 50 artistas, entre eles nomes como Carla Chaim, Nino Cais e Mateu Velasco.

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